Apr 27, 2025 Lasciate un messaggio

La differenza tra il silicio metallico 1101 2202 3303

1. Composizione e purezza

Grado Silicio (SI) Iron (FE) Alluminio (AL) Calcio (CA) Altre impurità
​1101 Maggiore o uguale al 99,9% Meno o uguale a 0. 1% Meno o uguale a 0. 1% Meno o uguale a 0. 01% Zolfo ultra-basso, fosforo
2202​ Maggiore o uguale al 99,8% Meno o uguale a 0. 2% Meno o uguale a 0. 2% Meno o uguale a 0. 02% Basse impurità
​3303​ Maggiore o uguale al 99,7% Meno o uguale a 0. 3% Meno o uguale a 0. 3% Meno o uguale a 0. 03% Moderate impurità

Intuizione chiave​:

​1101​: PURITÀ PIÙ ALTA, Impurità ultra-basse per applicazioni di precisione.

​2202​: Purezza equilibrata per uso industriale generale.

​3303​: Grado economico con una maggiore tolleranza per le impurità.


2. Applicazioni

Grado Usi primari
​1101​ - ​Semiconduttori e celle solari: Materia prima per purezza per wafer e IC fotovoltaici.
- ​Prodotti chimici: Resine silicone, polimeri ad alte prestazioni.
- ​Aerospaziale: Leghe di casting di precisione.
​2202​ - ​Leghe di alluminio: Parti automobilistiche, componenti strutturali.
- ​Disossidazione in acciaio: Efficienza in termini di costi in acciaio per l'edilizia.
- ​Fonderie: Additivi di casting per scopi generici.
​3303​ - ​Leghe industriali: Leghe di magnesio, elettrodi di saldatura.
- ​Accumulo di energia: Anodi della batteria agli ioni di litio (applicazioni non critiche).
- ​Costruzione: Materiali di rinforzo.

3. Proprietà fisiche

Grado Conducibilità termica Conducibilità elettrica Resistenza all'ossidazione
​1101​ Alto (maggiore o uguale a 150 W/M · K) Maggiore o uguale a 1,5 × 10⁶ s/m Eccellente (alta purezza)
​2202​ Moderato (130–140 W/M · K) 1.2–1.4×10⁶ S/m Bene
​3303​ Inferiore (110–120 W/M · K) 0.8–1.1×10⁶ S/m Fair (Fe/Al più alto)

4. Costo e disponibilità

Grado Costo per tonnellata Tempo di consegna Disponibilità
​1101​ Alto Lungo Solo produzione personalizzata
​2202​ Medio Moderare Ampiamente fornito
​3303​ Basso Corto Prodotto in serie

5. Processo di produzione

Grado Metodo di raffinazione Controllo di qualità
​1101​ Deposizione di vapore chimico a più fasi (CVD), lisciviazione acida, distillazione del vuoto. ASTM/ISO 9001, conformità ROHS, tracciabilità.
​2202​ Fronte di fornace ad arco elettrico avanzato (EAF) con fonti di carbonio controllate. Test di spettroscopia di base.
​3303​ Fondamento EAF convenzionale con post-elaborazione minima. Screening di impurità in loco.

6. Gestione e archiviazione

Grado Imballaggio Requisiti di archiviazione
​1101​ Gas inerte a vuoto (Argon). Ambiente secco e inerte; sensibile all'umidità.
​2202​ Tamburi di plastica/acciaio ermetica. Condizioni di magazzino standard.
​3303​ Semplici sacchetti di polietilene. Non è necessaria alcuna gestione speciale.

Riepilogo delle differenze

Aspetto ​1101​ ​2202​ ​3303​
Purezza Ultra-alto (maggiore o uguale al 99,9% SI) Alto (maggiore o uguale al 99,8% di Si) Moderato (maggiore o uguale al 99,7% SI)
Uso primario Semiconduttori, aerospaziale Leghe, desossidazione in acciaio Leghe industriali, accumulo di energia
Costo Più alto Medio Il più basso
Impurità Fe/al/ca Basso Fe/Al/Ca Fe/al/ca

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Grado 1101: Silicio ultra-puro certificato (FE<0.1%, Al <0.1%) for semiconductor and solar industries.

Grado 2202: Agente di lega affidabile ed economico con certificazioni globali (ASTM, GB).

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